
© Foto: Bart van Overbeeke Fotografie
ASML, TSMC, Samsung und Intel treiben die nächste Stufe der EUV-Technologie voran. Ein neues Maskenformat soll Kosten senken und die Fertigung beschleunigen.Enthaltene Werte: US4581401001,US7960502018,US8740391003,NL0010273215
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