SUSS MicroTec erweitert sein Angebot für die Halbleiterindustrie um das Fotomasken-Reinigungssystem ASC9500. Die neue Anlage richtet sich an Hersteller, die etablierte Technologieknoten zwischen 38 und 90 Nanometern einsetzen. Die Plattform basiert auf einer überarbeiteten Architektur und lässt sich an unterschiedliche Produktionsanforderungen ...Den vollständigen Artikel lesen ...
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