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SÜSS MicroTec führt neue Mask Aligner Serie MA/BA Gen4 in den Markt ein

DGAP-Media / 2016-06-30 / 10:00 
 
SÜSS MicroTec führt neue Mask Aligner Serie MA/BA Gen4 in den Markt ein 
 
Garching, 30. Juni 2016 - SÜSS MicroTec, führender Hersteller von Anlagen und Prozesslösungen für die 
Halbleiterindustrie und verwandte Märkte, gibt heute die Markteinführung der MA/BA Gen4 Serie bekannt. Diese neue 
Generation des halbautomatischen Mask- und Bond Aligners zeichnet sich durch verbesserte Fähigkeiten im Hinblick auf 
Justagegenauigkeit, Ergonomie sowie geringere Betriebskosten aus. Mit der Markteinführung der vierten Generation setzt 
SÜSS MicroTec auf ein neuartiges Plattformsystem. Die beiden Plattformen unterscheiden sich durch ihre jeweilige 
Konfiguration und bestehen zum einen aus der MA/BA Gen4 für Standardprozesse sowie der MA/BA Gen4 Pro Serie für 
anspruchsvolle High-End Prozesse. Mit der Einführung dieses Plattformsystems optimiert SÜSS MicroTec das 
Produktportfolio der Mask Aligner, um den Kundenansprüchen zukünftig noch besser entsprechen zu können. 
 
Das Hauptanwendungsgebiet für SÜSS MicroTec's MA/BA Gen4 Serie ist die Vollfeld-Lithografie für die Endmärkte MEMS, 3D 
Integration sowie den Markt für Verbindungshalbleiter und akademische Anwendungsbereiche. Die Geräteserie deckt 
Prozessschritte wie die Bond-Justage, das Fusionsbonden sowie SMILE-Imprint Technologien ab. Neben der Bearbeitung von 
Standard Wafern erlaubt die MA/BA Gen4 Serie zudem die Handhabung von empfindlichen Substraten, beispielsweise von 
zerbrechlichen oder gebogenen Wafern oder Wafern mit einer unebenen Oberfläche. 
 
"Unsere neue manuelle Mask Aligner-Serie setzt hohe Maßstäbe in Bezug auf Kosteneffizienz, Benutzerfreundlichkeit und 
anspruchsvolle Prozessergebnisse" sagt Dr. Per-Ove Hansson, CEO von SÜSS MicroTec. "Mit diesem neuen Plattform-Konzept 
entsprechen wir einmal mehr den Kundenanforderungen - mit der MA/BA Gen4 für Standard Lithografieprozesse und der MA/BA 
Gen4 Pro Serie für die Produktion von Kleinserien und für anspruchsvollere Prozesse, wie z.B. unsere Soft Conformal 
Imprint Lithography (SCIL) Technologie." 
 
Über SÜSS MicroTec 
SÜSS MicroTec ist einer der weltweit führenden Hersteller von Anlagen- und Prozesslösungen für die Mikrostrukturierung 
in der Halbleiterindustrie und verwandten Märkten. In enger Zusammenarbeit mit Forschungsinstituten und 
Industriepartnern treibt SÜSS MicroTec die Entwicklung von neuen Technologien wie 3D Integration und Nanoimprint 
Lithographie sowie Schlüsselprozesse für die MEMS und LED Produktion voran. Weltweit sind mehr als 8.000 installierte 
Systeme von SÜSS MicroTec im Einsatz, unterstützt von einer globalen Infrastruktur für Applikationen und Service. 
Hauptsitz der SÜSS Gruppe ist in Garching bei München. Für weitere Informationen besuchen Sie www.suss.com. 
 
Kontakt: 
SÜSS MicroTec AG 
Franka Schielke 
Schleissheimer Strasse 90 
85748 Garching, Deutschland 
Tel.: +49 (0)89 32007-161 
Fax: +49 (0)89 32007-451 
Email: franka.schielke@suss.com 
 
Ende der Pressemitteilung 
 
Emittent/Herausgeber: SÜSS MicroTec AG 
Schlagwort(e): Forschung/Technologie 
 
2016-06-30 Veröffentlichung einer Pressemitteilung, übermittelt durch DGAP - ein Service der EQS Group AG. 
Für den Inhalt der Mitteilung ist der Emittent / Herausgeber verantwortlich. 
 
Die DGAP Distributionsservices umfassen gesetzliche Meldepflichten, Corporate News/Finanznachrichten und 
Pressemitteilungen. 
Medienarchiv unter http://www.dgap.de 
Sprache:     Deutsch 
Unternehmen: SÜSS MicroTec AG 
             Schleissheimer Strasse 90 
             85748 Garching 
             Deutschland 
Telefon:     +49 (0)89 32007-161 
Fax:         +49 (0)89 32007-451 
E-Mail:      ir@suss.com 
Internet:    www.suss.com 
ISIN:        DE000A1K0235 
WKN:         A1K023 
Indizes:     TecDAX 
Börsen:      Regulierter Markt in Frankfurt (Prime Standard); Freiverkehr in Berlin, Düsseldorf, Hamburg, München, 
             Stuttgart 
 
Ende der Mitteilung DGAP-Media 
475891 2016-06-30 
 
 

(END) Dow Jones Newswires

June 30, 2016 04:00 ET (08:00 GMT)

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