Die Marktführerschaft von Rigaku im Bereich der TXRF-Technologie ermöglicht bis zu 6-fache Steigerung der Analyseleistung
Die Rigaku Corporation, ein globaler Lösungspartner für Röntgenanalysesysteme und Unternehmen der Rigaku Holdings Corporation (Hauptsitz: Akishima, Tokio; CEO: Jun Kawakami; "Rigaku") hat den Verkauf des XHEMIS (ausgesprochen "ZEM-mis") TX-3000 aufgenommen ein Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzsystem (TXRF), das die Analyse von Spurenverunreinigungen auf Waferoberflächen in der Halbleiterfertigung unterstützt.
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Measurement result of surface contaminant distribution
Rigaku gewährleistet eine hohe Qualität mithilfe der TXRF-Technologie, bei der das Unternehmen den Markt dominiert
Für die Herstellung von Halbleitern ist die Analyse von Spurenverunreinigungen auf Waferoberflächen von zentraler Bedeutung. Da die Fertigungsschritte immer detaillierter und die Qualitätsstandards immer anspruchsvoller werden, trägt dieser Prozess wesentlich zur Senkung der Fehlerquote bei. Zudem erfordern Produktionslinien mit Hunderten von Arbeitsschritten eine präzise Analyse von Spurenverunreinigungen auf Waferoberflächen, um einen stabilen Betrieb und eine hohe Produktqualität zu garantieren. Mit dem repräsentativen TXRF-Verfahren hat Rigaku seine Technologie als effektiven globalen Standard etabliert. Seit geraumer Zeit ist das Unternehmen ein Motor für steigende Qualitätsstandards in der Branche.
Das jüngste Modell von Rigaku, das XHEMIS TX-3000, bietet Verbesserungen bei den bisherigen Funktionen und einen Quantensprung in Sachen Messgenauigkeit, Bedienbarkeit und Produktivität.
Dank einer bis zu 6-fachen Effizienzsteigerung brauchen Messaufgaben statt einer Stunde nur noch 10 Minuten
Das XHEMIS TX-3000 erreicht eine bis zu 6-mal höhere Verarbeitungsgeschwindigkeit im Vergleich zu den bisherigen Systemen von Rigaku. Zunächst wird die Messgeschwindigkeit durch die Kombination eines neu entwickelten optischen Arrays mit einem neuartigen Mehrfachdetektor verdreifacht. Dann wird das kombinierte System mit einer KI-gestützten Spektrum-Prognosetechnologie gekoppelt, um die Messgeschwindigkeit zu verdoppeln ohne Abstriche bei der Genauigkeit. Die innovative Technologie dieser zweistufigen Lösung sorgt für mehr Produktivität und Prozessstabilität in Halbleiterfabriken. Mit unserem Vorgängermodell dauerten Messungen in der Regel eine Stunde. Jetzt sind sie in nur 10 Minuten erledigt.
Neues Detektordesign ermöglicht die Analyse leichterer Elemente
Das XHEMIS TX-3000 verfügt über eine Röntgenquelle, die zwischen drei verschiedenen Wellenlängen umgeschaltet werden kann. Dadurch lassen sich auch leichtere Elemente wie Natrium, Magnesium und Aluminium analysieren, die mit fluoreszierenden Röntgenanalysesystemen nur schwer nachweisbar sind. So kann die Oberflächenverteilung von Verunreinigungen für nahezu alle Elemente ohne Zerstörung der Probe gemessen werden.
Außerdem kombiniert das XHEMIS TX-3000 einen neu entwickelten Monochromator, der Röntgenstrahlung erzeugen kann, mit einem Multi-Element-Detektor, der drei Stellen auf der Waferoberfläche gleichzeitig messen kann. Durch die Kombination dieser Funktionen liefert das XHEMIS TX-3000 die dreifache Messgeschwindigkeit im Vergleich zu früheren Systemen.
KI unterstützt hohe Präzision und erweiterte Anwendungen
Eine Schwierigkeit bei fluoreszierenden Röntgenanalysesystemen ist die Tatsache, dass eine Verkürzung der Messzeit die Messgenauigkeit beeinträchtigt. Um dieses Problem zu beheben, verwendet das XHEMIS TX-3000 eine Spektrum-Prognosesoftware, die mit umfangreichen Analysedaten trainiert wurde. Auf diese Weise wird die Präzision aufrechterhalten, während zugleich die Messzeit um die Hälfte reduziert wird.
Zusätzlich verringert eine neue Funktion unnötige Hintergrundsignale und weitet den Anwendungsbereich auf eine Vielzahl von Materialien aus, die bisher für die Messung von Spurenverunreinigungen ungeeignet waren. Dazu gehören Barrieremetalle (Schutzbeschichtung für Verdrahtungen), hochdielektrische Folien und Verbindungshalbleiter.
Kiyoshi Ogata, Senior Executive Vice President, kommentiert:
"Für das Jahr 2025 prognostiziert Rigaku einen Umsatz von etwa 5 Milliarden Yen für herkömmliche TXRF-Produkte. Durch die Markteinführung dieses High-End-Systems erwartet Rigaku eine verstärkte Akzeptanz bei großen Halbleiterherstellern. Für dieses Produktsegment erwartet das Unternehmen in den kommenden Jahren ein zweistelliges Wachstum als stabile Plattform, die das nachhaltige Wachstum des Halbleitermarktes unterstützt."
Einzelheiten zum System
https://rigaku.com/products/semiconductor-metrology/txrf/xhemis-tx-3000?setLang=english
Über die Rigaku Group
Seit der Gründung im Jahr 1951 haben sich die Ingenieure der Rigaku Group dem Ziel verschrieben, der Gesellschaft mit Spitzentechnologien zu helfen, insbesondere in den Kernbereichen Röntgen- und Thermoanalyse. Mit einer Marktpräsenz in über 90 Ländern und rund 2.000 Mitarbeitern in 9 weltweiten Niederlassungen ist Rigaku ein Lösungspartner für die Industrie und Forschungsinstitute. Unsere Verkaufsquote in Übersee hat etwa 70% erreicht, während wir in Japan einen außergewöhnlich hohen Marktanteil halten. Gemeinsam mit unseren Kunden entwickeln wir uns weiter und wachsen. Da sich die Anwendungen von Halbleitern, elektronischen Materialien, Batterien, Umwelt, Ressourcen, Energie, Biowissenschaften bis hin zu anderen High-Tech-Bereichen erstrecken, verwirklicht Rigaku Innovationen unter dem Motto "To Improve Our World by Powering New Perspectives".
Für weitere Informationen besuchen Sie bitte rigaku-holdings.com/english
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Sawa Himeno
Head of Communications Dept., Rigaku Holdings Corporation
prad@rigaku.co.jp
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